टाइटेनियम लक्ष्य

पवित्रता
शुद्धता लक्ष्य के मुख्य प्रदर्शन संकेतकों में से एक है, क्योंकि लक्ष्य की शुद्धता का फिल्म . के प्रदर्शन पर बहुत प्रभाव पड़ता है, हालांकि, व्यावहारिक अनुप्रयोगों में, लक्ष्य के लिए शुद्धता आवश्यकताएं समान नहीं हैं . उदाहरण के लिए, माइक्रोइल्ट्रोनिक्स उद्योग के तेजी से विकास के साथ, 8 " 0 . 5um से 0 . 25um, 0.18um या 0.13um, और पिछले 99.995% लक्ष्य शुद्धता 0.35umic की प्रक्रिया की आवश्यकताओं को पूरा कर सकती है।
अशुद्धता सामग्री
लक्ष्य ठोस और ऑक्सीजन में अशुद्धियां और छिद्रों में जल वाष्प जमा फिल्मों के मुख्य प्रदूषण स्रोत हैं {. विभिन्न उद्देश्यों के लिए लक्ष्य अलग -अलग अशुद्धता सामग्री के लिए अलग -अलग आवश्यकताएं होती हैं . उदाहरण के लिए, सेमीकॉंडर इंडस्ट्रीज के लिए उपयोग किए जाने वाले विशेष आवश्यकताओं के लिए}
घनत्व
लक्ष्य ठोस में पोरसिटी को कम करने और थूथन वाली फिल्म के प्रदर्शन में सुधार करने के लिए, लक्ष्य को आमतौर पर एक उच्च घनत्व . के लिए आवश्यक होता है, लक्ष्य का घनत्व न केवल स्पटरिंग दर को प्रभावित करता है, बल्कि फिल्म के विद्युत और ऑप्टिकल गुणों को भी प्रभावित करता है . लक्ष्य के लक्ष्य को स्पटरिंग के दौरान थर्मल तनाव का सामना करने में सक्षम बनाता है . घनत्व भी लक्ष्य सामग्री के प्रमुख प्रदर्शन सूचकांक में से एक है .